対象処理量：

工場排水 60m³　

汚染物質濃度：

ヒ素(As) 0.01～ 0.1mg/L　

状況：

コンプライアンス的に排水基準値ではなく環境基準値の遵守が必要。

工法・材料：

吸着濾過処理 CAMZ

AMECが選ばれる理由：

検出限界値レベルまでの濃度低減が可能。既存設備へのリプレイスが容易。

実績：

中部地方工場排水処理に採用

対象処理量：

地下水 200m³　

汚染物質濃度：

ヒ素(As) 0.026mg/L　

状況：

簡易水道として地下水利用の計画があったが、基準値を超過するヒ素が検出。

工法・材料：

吸着濾過処理 CAMZ

AMECが選ばれる理由：

限られた処理装置の設置スペースに対応したコンパクトで連続処理が可能。

実績：

東北地方宿泊施設内自主水源確保計画に採用

対象処理量：

工場排水 120m³/日　

汚染物質濃度：

ヒ素(As) 0.1～0.2mg/L セレン(Se)
0.1～0.2mg/L　

状況：

ヒ素、セレンの複合汚染であり、環境基準値未満までの低減が必要。

工法・材料：

吸着濾過処理 CAMZ

AMECが選ばれる理由：

複合汚染に対し1種類の吸着剤でヒ素・セレンに対し同時に作用することが可能。

実績：

関西地方金属製錬工場排水処理に採用

対象処理量：

鉱山湧水 (非公開)　

汚染物質濃度：

セレン(Se) 0.126mg/L　

状況：

汚染土壌を保管していた現場から浸出水が発生。

工法・材料：

凝集沈殿処理 TKS105

AMECが選ばれる理由：

吸着困難であるセレンに対し、低添加量で効果を発現することが可能。

実績：

近畿山間部湧水浸出水対策に採用

対象処理量：

地下水 24m³/日　

汚染物質濃度：

ヒ素(As) 0.177mg/L　

状況：

特徴的な水源の水質を維持したままヒ素のみの除去が必要。

工法・材料：

吸着濾過処理 CAMZ

AMECが選ばれる理由：

吸着物質の選択制を有する吸着材を用いることでヒ素のみ選択的に除去が可能。

実績：

関東地方湧水処理に採用

凝集沈殿方式

概要：

汚染水が充填された反応槽に凝集剤を添加・撹拌し、一定時間経過することで浮遊物質や懸濁物質はフロックを生成し沈降する。沈降した後上澄み部を放流する。沈降したフロックは脱水・乾燥工程を経て汚泥として処理される。沈降速度が遅い場合は沈殿剤を併用する場合がある。

特徴：

中～高濃度汚染水に対し有効。 処理工程数が多い。 反応、沈降時間が必要。 フロックやスラッジの回収・処理が必要。

吸着濾過方式

概要：

一定の粒子径、多孔性や吸着性などを有する材料に汚染水を通過させ、汚染水に含まれる汚染物質の除去を行う。物理的吸着、化学的吸着の種類がある。汚染水との接触のみで効果を発動し、簡便で連続的な処理が可能となる。

特徴：

低濃度汚染を不検出レベルにまで低減可能。 処理工程数が少ない。 連続処理が可能。 フロックやスラッジが発生しない。

セリウム系

概要：

水酸化セリウムを担持させた粒状吸着剤であり、水酸基とのイオン効果によりヒ素を除去

性能：

◯

吸着後の安定性：

×

保管・使用条件：

×

コスト：

△

アルミナ系

概要：

酸化アルミニウムで構成された粒状吸着剤であり酸化アルミニウム表面部への化学吸着によりヒ素を除去

性能：

△

吸着後の安定性：

△

保管・使用条件：

◯

コスト：

△

鉄粉系

概要：

金属鉄で構成された粉末状吸着剤であり、鉄イオンとヒ酸イオンの結合によるヒ酸鉄生成によりヒ素を除去

性能：

△

吸着後の安定性：

△

保管・使用条件：

△

コスト：

◯

CAMZ（AMEC開発製品）

概要：

人口ゼオライト・鉄化合物複合体で構成された粒状吸着剤であり、イオン交換による吸着によりヒ素を除去

性能：

◯

吸着後の安定性：

◯

保管・使用条件：

◯

コスト：

△